1、半导体集成电路要求的空气洁净度等级
集成电路生产环境要求的空气洁净度等级主要取决于集成电路的集成度,不同工序的空气洁净度等级是依据可能污染的概率和对器件的潜在故障确定的。
举例说明:
例一、某厂集成电路前工序洁净厂房,无尘车间设计按加工、生产6英寸硅片、1M集成电路,图形特形尺雨1.0um,控制粒子粒径0..1um.
无尘车间空气洁净度等级要求:
光刻、匀胶区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等操作区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等维修区 ISO 5级
例二、某厂集成电路前工序洁净厂房,无尘车间设计按加工、生产5英寸硅片、256K集成电路、图形特形尺雨2.0um,控制粒子粒径0.2um.
无尘车间工程空气洁净度等级要求:
光刻、匀胶区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等操作区 ISO 4级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等维修区 ISO 6级
2、一些电子产品生产环境的空气洁净度等级
随着信息产业技术的发展,许多电子产品性能、质量的提高和生产过程的微细化,日益要求生产环境具有一定的空气洁净度等级和控制无尘车间内工艺生产所需的各类高纯物质的供给质量,目前国内外还没有统一电子产品的空气洁净度等级或生产环境控制要求的统一规定,各种电子产品的生产厂家依据其生产的产品品种、所采用的生产工艺技术、生产工艺设备、生产用原辅料以及无尘车间运行的实践经验确定设计建造无尘车间的空气洁净度等级。
举例说明:
例一、薄膜晶体管彩色液晶显示器生产用无尘车间,TFT-LCD具有体积小、质量轻、易携带、耗电低、色彩逼真、大容量、高分辨示等优点。
各无尘车间空气洁净度等级,控制粒子粒径为0.3um
清洗、涂胶、曝光间 ISO 4级
显影、刻蚀间 ISO 5级
成盒间 ISO 5级
溅射、CVD间 ISO 6级
例二、某高密度磁带生产用洁净厂房、无尘车间控制微粒粒径0.5um
各无尘车间的空气洁净度等级要求
涂布头 ISO 5级
备件、切带、带基、测试、涂布间和烘干、固化间 ISO 6级
组装、维修间和部分原料库 ISO 7级
砂磨、化验间和配件间 ISO 8级
成品库和部分原料库 准洁净间
3、精密机械、精细化工等产品生产环境的空气洁净度等级
例一、一个陀螺仪生产用无尘车间工程
无尘车间空气洁净度等级要求
装配间 ISO 6级
轴承加工间 ISO 5级
例二、一个感光胶片生产用无尘车间
流延机头部,涂布机头部 ISO 5级
涂布室,流延机室 ISO 6级
等等......